中证报中证网讯(王珞)日前,龙图光罩(688721)在其官方微信公众号宣布,90nm节点的半导体掩模版产品已在珠海“高端半导体芯片掩模版制造基地”正式实现量产,同时65nm产品开始送样验证,标志着公司在高端制程的影响力进一步增强,覆盖的下游领域更加广泛。
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产品从130nm到65nm进化
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据公司招股书显示,龙图光罩成立于2010年,主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售,是独立第三方半导体掩模版厂商,其产品广泛应用于信号链及电源管理IC等成熟制程,以及功率器件、MEMS传感器、先进封装等特色工艺制程。
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龙图光罩介绍,自公司在科创板挂牌上市以来,不断增加投入进行技术攻关和产品迭代,工艺能力从130nm逐步提升至65nm,并已完成40nm工艺节点的生产设备布局。目前,公司与国内重点的晶圆厂及设计公司均建立了深度的合作关系,技术实力及工艺能力在国内同行中处于第一梯队。
持续加大技术研发投入
龙图光罩介绍,公司的研发团队在半导体掩模版领域耕耘多年,具有深厚的技术积累以及良好的技术转化能力。截至2024年底,公司拥有研发人员43人,占公司总人数的17.41%,本科学历以上共37人,其中硕士研究生8人。同时,公司通过引进人才,积极与高校、科研院所开展产学研合作,提升研发实力。
公开资料显示,公司已获得国家工信部专精特新“小巨人”企业认定、广东省功率半导体芯片掩模版工程技术研究中心认定、广东省专精特新中小企业认定、国家高新技术企业认定。截至2024年底,公司已累计获得25项发明专利和36项软件著作权以及40余项实用新型专利。
据龙图光罩2025年一季报,公司今年一季度实现营收5436.74万元,研发投入565.42万元,占营收比例为10.4%,比去年同期增加2.14个百分点。
抢抓新兴领域增长机遇
龙图光罩2024年年报指出,近年来,新能源、AI、自动驾驶、物联网、5G通信、VR/AR、元宇宙等新兴领域呈现出强劲的增长态势,促使半导体企业加快技术创新和产品升级步伐,推动了掩模版市场规模的持续扩大,但长期以来国内半导体掩模版市场份额主要由国际巨头所占据。
龙图光罩介绍,当前,中国大陆厂商已达量产的半导体掩模版仍主要停留在350nm-130nm,130nm及以下工艺节点目前参与厂商较少。根据中国电子协会官网数据显示,目前中国半导体掩模版的国产化率为10%左右,90%需要进口,高端掩模版的国产化率仅约3%。
公司表示,将围绕高端半导体芯片掩模版领域持续加大研发投入,目标成为国内一流、国际领先的半导体光罩标杆企业。
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